氮化的工藝：氣體軟氮化的主要工藝參數為氮化溫度，氮化時間，以及氮化氣氛。氣體軟氮化溫度常用560-570℃，因該溫度下氮化層硬度最高。氮化時間通常為3-4小時，因為化合物層的硬度在共滲2-3小時達到最高，而隨時間的延長，氮化層深度增加緩慢。氮化氣氛由氨氣分解率和含碳滲劑的滴量速度所決定。氮化的原理：氣體軟氮化，即氣體氮碳共滲，是指以氣體滲氮為主，滲碳為輔的的低溫氮碳共滲。常用介質有50%氨氣+50%吸熱式氣體（Nitemper法）；35%-50%氨氣+50-60%放熱式氣體（Nitroc法）和通氨氣時滴注乙醇或甲酰胺等數種。在軟氮化時，由于碳原子在相中的溶解度高，軟氮化的表層是碳、氮共同的化合物，這種化合物韌性好且耐磨。在氣體軟氮化過程中，由于碳原子的溶解度極低，所以很快達到飽和狀態，析出許多超顯微的滲碳體質點。這些滲碳體質點，作為氮化物結晶的核心，促使氮化物的形成。而當表層氮濃度達到一定時便形成相，而相的碳溶解能力很高，反過來又能加速碳的溶解。氣體軟氮化后，其組織由相，′相和含氮的滲碳體Fe3（C，N）所組成，碳會降低氮的擴散速度，所以熱應力和組織應力較硬氮化大，滲層更薄。但同時，由于軟氮化層不存在相，故氮化層韌性比硬氮化后更佳